Больше не нужно искать — необходимые
обучающие материалы и подсказки всегда под рукой

Бельгийский научно-исследовательский центр imec (Межуниверситетский центр микроэлектроники) впервые в мире создал устройство на основе квантовых точечных кубитов, используя технологию High-NA EUV-литографии.
Ключевое достижение — не только сам факт производства, но и рекордная плотность печати: критические элементы выполнены с зазорами около 6 нанометров. Для таких кубитов это принципиально важно, так как сила связи между соседними квантовыми точками экспоненциально возрастает при сокращении расстояния между ними.
В imec отметили, что применение High-NA EUV позволяет перейти от лабораторных прототипов к воспроизводимым кубитам, совместимым с 300-миллиметровыми пластинами.
Ранее центр называл ключевыми условиями масштабирования полный переход на 300-миллиметровый процесс и использование более масштабируемой архитектуры квантовых точек, которая должна решить проблему узкого места проводников.
Промышленности требуются не только высококачественные, но и масштабируемые кубиты. В imec считают, что квантовые биты на спинах электронов в кремниевых квантовых точках перспективны именно потому, что позволяют одновременно улучшать характеристики кубитов и повышать масштабируемость производства.
Также в imec сообщили, что EUV-литография обеспечивает более высокую точность совмещения слоев при производстве чипов по сравнению с электронно-лучевыми инструментами. Для кремниевых кубитов это критично, так как стабильность системы зависит не только от минимального размера элементов, но и от точности взаимного расположения управляющих электродов, контактов и металлизации.
Отдельно в imec подчеркнули, что High-NA EUV пока остается крайне редкой технологией.
Напомним, в мае глобальный директор по продажам IBM Quantum Петра Флоризун заявила о выходе квантовых вычислений из стадии лабораторных экспериментов и начале их применения в реальных задачах.
Популярные лонгриды: